高周波-大電力パルス...

高周波-大電力パルススパッタリング法を用いたDLC成膜における放電特性と薄膜特性の関係

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高周波-大電力パルススパッタリング法を用いたDLC成膜における放電特性と薄膜特性の関係

国立国会図書館請求記号
Z74-K985
国立国会図書館書誌ID
032306840
資料種別
記事
著者
福江 紘幸ほか
出版者
岡山 : 岡山理科大学フロンティア理工学研究所
出版年
2021-12
資料形態
掲載誌名
フロンティア理工学研究所研究報告 = The bulletin of Research Institute of Frontier Science and Technology / 岡山理科大学フロンティア理工学研究所 編 (3):2021.12
掲載ページ
p.9-12
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
福江 紘幸
岡野 忠之
黒岩 雅英
國次 真輔
太田 裕己
米澤 健
中谷 達行
並列タイトル等
Relationship between discharge characteristics and thin film properties in DLC film deposition using high frequency-high power impulse magnetron sputtering method
タイトル(掲載誌)
フロンティア理工学研究所研究報告 = The bulletin of Research Institute of Frontier Science and Technology / 岡山理科大学フロンティア理工学研究所 編
巻号年月日等(掲載誌)
(3):2021.12
掲載号
3
掲載ページ
9-12
掲載年月日(W3CDTF)
2021-12