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スパッタリングプロセ...

スパッタリングプロセス中の不純物制御による機能性磁性薄膜の微細組織制御 (小特集「真空利用プロセスの診断と制御:最近の進展」)

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スパッタリングプロセス中の不純物制御による機能性磁性薄膜の微細組織制御(小特集「真空利用プロセスの診断と制御:最近の進展」)

国立国会図書館請求記号
Z16-474
国立国会図書館書誌ID
5884432
資料種別
記事
著者
高橋 研ほか
出版者
東京 : 日本真空協会
出版年
2001-07
資料形態
掲載誌名
真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan 44(7) 2001.7
掲載ページ
p.631~648
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
高橋 研
角田 匡清
David D. Djayaprawira
タイトル(掲載誌)
真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
44(7) 2001.7
掲載巻
44
掲載号
7
掲載ページ
631~648