Measurement of Plasma Density for Control of Etching Profile in Inductively Coupled Plasma Etching of InP.

• 資料種別: 記事
• タイトル: Measurement of Plasma Density for Control of Etching Profile in Inductively Coupled Plasma Etching of InP.
• 巻次・部編番号: 41; 5A
• 著者・編者: Matsutani Akihiro; Ohtsuki Hideo; Koyama Fumio; Iga Kenichi
• 著者標目: Matsutani Akihiro; Ohtsuki Hideo; Koyama Fumio; Iga Kenichi
• 出版年月日等: 2002
• 出版年（W3CDTF）: 2002
• タイトル（掲載誌）: Japanese Journal of Applied Physics
• 巻号年月日等（掲載誌）: 41 5A
• 掲載巻: 41
• 掲載号: 5A
• 掲載ページ: 3147-3148
• ISSN（掲載誌）: 0021-4922; 1347-4065
• 件名標目: Cl<FONT SIZE="-1"><SUB>2</SUB></FONT>; InP; double probe; mass spectrometry; inductively coupled plasma (ICP); dry etching
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1143/JJAP.41.3147
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE; http://www.jstage.jst.go.jp

• 要約等: We investigated the effect of the plasma density on the control of the etching profile in an inductively coupled plasma (ICP) etching of InP. It was f...