(Zn, Mg, Al)O/ZnO 積層構造の作製とその界面特性の評価

• 資料種別: 記事
• タイトル: (Zn, Mg, Al)O/ZnO 積層構造の作製とその界面特性の評価
• 巻次・部編番号: 2003S; 0
• 著者・編者: 両見 春樹; 安達 裕; 坂口 勲; 大橋 直樹; 竹中 正; 羽田 肇
• 著者標目: Ryoken Haruki; 両見 春樹; Adachi Yutaka; 安達 裕; Sakaguchi Isao; 坂口 勲; Ohashi Naoki; 大橋 直樹; Takenaka Tadashi; 竹中 正; Haneda Hajime; 羽田 肇
• 出版年月日等: 2003
• 出版年（W3CDTF）: 2003
• 並列タイトル等: Preparation of (Zn, Mg, Al)O/ZnO layered structures and characterization of their interfaces
• タイトル（掲載誌）: 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集; Preprints of Annual Meeting of The Ceramic Society of Japan<br> Preprints of Fall Meeting of The Ceramic Society of Japan
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2003S 0
• 掲載巻: 2003S
• 掲載号: 0
• 掲載ページ: 209-209
• 著者別名: Ryoken Haruki; Adachi Yutaka; Sakaguchi Isao; Ohashi Naoki; Takenaka Tadashi; Haneda Hajime
• 件名標目: バンドエンジニアリング; ドーピング; 積層構造; パルスレーザー蒸着; 酸化亜鉛
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.14853/pcersj.2003S.0.209.0
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 連携機関・データベース: 科学技術振興機構 : J-STAGE; http://www.jstage.jst.go.jp

• 要約等: By the PLD method, thin films in which ZnO was made to add Mg, Al is fabricated and it were investigated at X-ray diffraction, PL measurement, etc. Wh...