高品質CoFe/MgO/SiおよびCoFe/AlOx/Siトンネルコンタクトを用いた Siチャネルへのスピン注入

• 資料種別: 記事
• タイトル: 高品質CoFe/MgO/SiおよびCoFe/AlOx/Siトンネルコンタクトを用いた Siチャネルへのスピン注入
• 著者・編者: 悪七, 泰樹; Akushichi, Taiju; 高村, 陽太; Takamura, Yota; 周藤, 悠介; Shuto, Yusuke; 菅原, 聡; SUGAHARA, SATOSHI
• 著者標目: 悪七, 泰樹; Akushichi, Taiju; 高村, 陽太; Takamura, Yota; 周藤, 悠介; Shuto, Yusuke; 菅原, 聡; SUGAHARA, SATOSHI
• 出版年月日等: 2014-12
• 出版年（W3CDTF）: 2014-12
• 並列タイトル等: Spin injection into Si channels using high-quality CoFe/MgO/Si and CoFe/AlOx/Si tunnel contacts
• 巻号年月日等（掲載誌）: O-5
• 掲載巻: O-5
• 本文の言語コード: jpn
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 出版タイプ： NA; identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50261448
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• 提供元機関・データベース: 東京科学大学 : 東京科学大学リサーチリポジトリ(T2R2)