0.18μm CMOSプロセスによる高周波発振器の位相雑音の改善手法に関する研究

資料に関する注記

書店で探す

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

九州大学学術情報リポジトリ
デジタル
連携先のサイトで、学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）が連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
九州大学学術情報リポジトリのサイトでこの本を確認

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

資料種別: 博士論文
タイトル: 0.18μm CMOSプロセスによる高周波発振器の位相雑音の改善手法に関する研究
著者・編者: シティ, アマリナビンティエンチェアブラヒム
著者標目: シティ, アマリナビンティエンチェアブラヒムシティ, アマリナ, ビンティ, エンチェ, アブ, ラヒム
出版年月日等: 2017-03-24
出版年（W3CDTF）: 2017-03-24
並列タイトル等: THREE DESIGNS OF RF OSCILLATORS OF IMPROVED PHASE NOISE IN 0.18μm CMOS PROCESS
寄与者: ポカレル, ラメシュ
吉富, 邦明
金谷, 晴一
授与機関名: 九州大学
授与年月日: 2017-03-24
報告番号: 17102甲第13580号
学位: 博士（工学）
DOCTOR OF ENGINEERING
本文の言語コード: eng
対象利用者: 一般
一般注記: 主1
システム情報_情報知能工学
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
提供元機関・データベース: 九州大学 : 九州大学学術情報リポジトリ