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1972(1) 1972.01
- 定容型装置による高圧ガスの吸着測定
p.1～8
- 高圧下における気体の吸着量測定と解析
p.8～16
- 低級オレフィンの酸化脱水素芳香族化反応の反応経路
p.16～21
- 銅触媒によるエチレン水素化中の反応ガス吸着
p.22～26
- 担体付酸化ウラン触媒の構造と一酸化炭素酸化活性
p.26～33
1972(2) 1972.02
- 77°Kにおけるフェナントレンキノンの結晶性溶液中のリン光スペクトル
p.229～232
- 油性ゲル状組成物のクリープ特性
p.233～238
- 蒸気吸着装置の試作とセメント水和物の細孔径分布測定への応用
p.238～243
- トリグリセリド単分子膜の形成と崩壊
p.243～248
- ヨウ化物法におけるウランの線形輸送理論
p.248～253
1972(3) 1972.03
- 膠質土(アロフェン)中の鉄分除去に関する研究
p.481～486
- Se-Te-S結晶の電気伝導度
p.486～490
- 非イオン界面活性剤油溶液への水の可溶化量を増加させる諸因子
p.491～495
- TiCl3-Al(C2H5)2Cl触媒系によるプロピレン無溶媒気相重合
p.495～499
- 担体付金属酸化物上でのプロピレンの不均化反応
p.500～506
1972(4) 1972.04
- フルオレセインのハロゲン誘導体の水素イオン濃度による電子スペクトルの変化
p.681～686
- グリセンの精製とケイ光特性
p.686～689
- 四三酸化コバルト中の不純物イオン分布
p.690～695
- 酸化鉄粉末のピロリン酸ナトリウム水溶液中における分散
p.695～701
1972(5) 1972.05
- カドミウム系顔料の浸漬熱と分散性
p.817～821
- パラジウム一活性炭触媒によるフェノールの液相水素化反応の速度論的研究
p.821～829
- コバルト一酸化マグネシウム触媒によるα-ピコリンの気相水素化反応
p.837～841
1972(6) 1972.06
- 一定面積における1-モノラウリン単分子膜の溶解速度について
p.995～999
- トリフェニルアミンを含む被照射3-メチルペンタンガラス中のイオン過程
p.1005～1009
- 酢酸中におけるパラジウム(II)塩とセリウム(III)塩との反応
p.1010～1015
- 酢酸溶媒中でのパラジウム(II)塩の安定性におよぼすセリウム(III)塩の効果
p.1016～1023
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書誌情報
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- 資料種別
- 雑誌
- タイトル
- タイトルよみ
- ニホン カガッカイシ : カガク ト コウギョウ カガク
- 巻次・部編番号
- 1972(1-6) (_L) 1972.1-6
- 著者・編者
- 日本化学会 編
- 著者標目
- 日本化学会 ニホン カガッカイ
- 出版事項
- 出版年月日等
- 1972
- 出版年（W3CDTF）
- 1972
- 刊行巻次・年月次
- 1972年no.1(1972年1月) - 1973年no.1(1973年1月) ; 1973年no.2=14(1973年2月) - 2002年no.3=363(2002)
- 大きさ
- 28cm
- 並列タイトル等
- Journal of the Chemical Society of Japan,chemistry and industrial chemistry Journal of the Chemical Society of Japan chemistry and industrial chemistryNippon Kagaku Kaishi Nippon Kagaku Kaishi
- ISSN（掲載誌）
- 0369-4577
- ISSN-L（掲載誌）
- 0369-4577
- 出版地（国名コード）
- JP
- 本文の言語コード
- jpn
- NDLC
- 一般注記
- 本タイトル等は最新号による
- 総目次・総索引注記
- 総目次・総索引あり
- 所蔵機関
- 国立国会図書館
- 請求記号
- Z17-659
- 改題前
- 合併前 : 日本化学雑誌合併前 : 工業化学雑誌
- 連携機関・データベース
- 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
- 書誌ID（NDLBibID）
- 000000018251
- 目録規則
- 日本目録規則1987年版改訂版