表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: 表面科学
• タイトルよみ: ヒョウメン カガク
• 巻次・部編番号: 21(7)-21(12) 20000700-20001200
• 著者・編者: 日本表面科学会 編
• 著者標目: 日本表面科学会 ニホン ヒョウメン カガッカイ ( 00293747 )典拠
• 出版事項: 東京 : 日本表面科学会
• 出版年月日等: 2000
• 出版年（W3CDTF）: 2000
• 刊行巻次・年月次: 1巻1号 (1980年6月)-38巻12号 (2017年12月)
• 大きさ: 26-30cm
• 並列タイトル等: Journal of the Surface Science Society of Japan Journal of the Surface Science Society of Japan; Journal of the Surface Science Society of Japan
• ISSN（掲載誌）: 0388-5321
• ISSN-L（掲載誌）: 0388-5321
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: ZM35
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 刊行頻度の変更あり
• 総目次・総索引注記: 総索引あり
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z15-379
• 改題後: 合併後 : 表面と真空 / 日本表面科学会, 日本真空学会 編 (ISSN:2433-5835); https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I028592749
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000033734; http://id.ndl.go.jp/bib/000000033734
• 目録規則: 国立国会図書館逐次刊行物目録規則

目次

第19回表面科学講演大会論文特集(1)

ポリドデシルチオフェン自己組織化単分子膜の形成過程 (第19回表面科学講演大会論文特集(1))

Ag/SiC(0001)表面上への原子状水素吸着過程のSTM観察 (第19回表面科学講演大会論文特集(1))

MgO(100)表面上にエピタキシャル成長したチタン酸化物表面形態の研究:非接触AFMによる研究 (第19回表面科学講演大会論文特集(1))

Ge(111)表面におけるARXPSスペクトル強度の温度依存性に対する理論的研究 (第19回表面科学講演大会論文特集(1))

第19回表面科学講演大会論文特集(2)

PbTiO3および(Pb,La)TiO3スパッタ薄膜の配向性への冷却効果 (第19回表面科学講演大会論文特集(2))

Geometric and Electronic Structures of V and Cr Clusters (第19回表面科学講演大会論文特集(2))

マイカ表面におけるアルキルアンモニウムイオンの吸着形態 (第19回表面科学講演大会論文特集(2))

Si(111)7×7表面上のCaF2成長のRHEED観察 (第19回表面科学講演大会論文特集(2))

特集:カーボンナノチューブの新しい展開

カーボンナノチューブの微細技術--量子輸送特性を中心に (特集:カーボンナノチューブの新しい展開)

カーボンナノチューブからの電子の電界放出とC20の電界蒸発 (特集:カーボンナノチューブの新しい展開)

カーボンナノチューブのSPM探針への展開 (特集:カーボンナノチューブの新しい展開)

カーボンナノチューブのナノメカニックス (特集:カーボンナノチューブの新しい展開)

特集:単分子膜のダイナミクス

プローブ顕微鏡による単分子膜系のダイナミクス (特集:単分子膜のダイナミクス)

X線反射率測定の気水界面単分子膜への応用 (特集:単分子膜のダイナミクス)

リプロン光散乱による単分子膜の物性研究 (特集:単分子膜のダイナミクス)

有機超薄膜の表面プラズモン共鳴測定 (特集:単分子膜のダイナミクス)

特集:単結晶基板の表面を比較する--誘電体から半導体、金属まで

シリコン基板の加工技術と加工表面品質 (特集:単結晶基板の表面を比較する--誘電体から半導体、金属まで)

III-V化合物半導体基板 (特集:単結晶基板の表面を比較する--誘電体から半導体、金属まで)

完全エピタキシーを目指した金属酸化物基板の原子レベル表面制御 (特集:単結晶基板の表面を比較する--誘電体から半導体、金属まで)

金属単結晶基板 (特集:単結晶基板の表面を比較する--誘電体から半導体、金属まで)

特集:SiC素子実用化のための表面研究

解説 SiC素子実用化に向けた研究の現状と将来展望 (特集:SiC素子実用化のための表面研究)

縦型ホットウォールCVDによるSiCエピタキシャル成長 (特集:SiC素子実用化のための表面研究)

SiC半導体へのイオン注入による不純物ドーピング (特集:SiC素子実用化のための表面研究)

SiC基板表面の平坦化技術 (特集:SiC素子実用化のための表面研究)