Research on a New Wet Cleaning Process for GSI Device Fabrication

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Research on a New Wet Cleaning Process for GSI Device Fabrication
• 著者・編者: 崔根敏 [著]
• 著者標目: 崔, 根敏 チョイ, グンミン
• 出版事項: [崔根敏]
• 出版年月日等: [2001]
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: GSIデバイス製造における新しいウェット洗浄プロセスの研究 GSI デバイス セイゾウ ニ オケル アタラシイ ウェット センジョウ プロセス ノ ケンキュウ
• 授与機関名: 東北大学
• 授与年月日: 平成13年3月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2001
• 報告番号: 甲第7957号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-N736
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000409565; http://id.ndl.go.jp/bib/000000409565
• 整理区分コード: 213

目次

CONTENTS

CHAPTER1 INTRODUCTION

1.1.General Background

1.2.Current Issues of Conventional Wet Cleaning

1.3.An Advanced Room Temperature 4-Step Wet Cleaning to Replace Conventional Cleaning