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シリコン結晶・ウェーハ技術の課題 : 大口径化,平坦化

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シリコン結晶・ウェーハ技術の課題 : 大口径化,平坦化

国立国会図書館請求記号
ND371-E190
国立国会図書館書誌ID
000002331835
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/13649584
資料種別
図書
著者
岸野正剛 編
出版者
リアライズ社
出版年
1994.1
資料形態
紙・デジタル
ページ数・大きさ等
346, 6p ; 27cm
NDC
549.8
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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
ISBN
4-947655-65-8
タイトルよみ
シリコン ケッショウ ウェーハ ギジュツ ノ カダイ
著者・編者
岸野正剛 編
著者標目
岸野, 正剛, 1938- キシノ, セイゴウ, 1938- ( 00149113 )典拠
出版年月日等
1994.1
出版年(W3CDTF)
1994
数量
346, 6p