工業化学雑誌

• 資料種別: 雑誌
• タイトル: 工業化学雑誌
• タイトルよみ: コウギョウ カガク ザッシ
• 巻次・部編番号: 71(1)-71(12) 19680000-19680000(No.1299-1324(26枚))
• 著者標目: 日本化学会 ニホン カガッカイ ( 00261496 )典拠; 工業化学会 コウギョウ カガッカイ ( 00325556 )典拠
• 出版事項: [東京] : [日本化学会]; [東京] : [富士写真フィルム] (製作)
• 出版年月日等: 1968
• 出版年（W3CDTF）: 1968
• 刊行巻次・年月次: 1編1号(明治31年3月) - 2編11号(明治32年1月) ; 2編2冊=12号(明治32年2月) - 74巻12号=872(昭和46年12月)
• 大きさ: 105×148mm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 資料種別（注記）: [マイクロ資料]
• NDLC: ZP1
• 一般注記: 本タイトル等は最新号による; 原資料の1編1号から50篇12冊までの出版者: 工業化學會 原資料の合併後誌: 日本化学会誌
• 総目次・総索引注記: 総目次・総索引あり
• 原資料等に関する注記: 原資料の出版事項: 東京 : 日本化学会, 1898-1971
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: YA5-1352
• 関連情報: 原資料 : 工業化学雑誌; https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000007550
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000004133402; http://id.ndl.go.jp/bib/000004133402
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版

目次

71(1) 1968.01/化学工業と電子計算機/ 1～7

71(1) 1968.01/化学工業と電子計算機(シンポジウム)/ 1～85

71(1) 1968.01/電子計算機の量子化学への応用/ 7～14

71(1) 1968.01/結晶構造解析と電子計算機/ 14～21

71(1) 1968.01/電子計算機を用いた反応モデルの組立/ 22～27

71(2) 1968.02/ビスシクロペンタジエニルチタニウム化合物-トリアルキルアルミニウム系のESRスペクトル/ 189～193

71(2) 1968.02/赤色硫化水銀の光伝導/ 193～197

71(2) 1968.02/塩基性炭酸マグネシウムの生成過程/ 197～200

71(2) 1968.02/苦土入り化成肥料中のカリウムの水溶率低下/ 200～204

71(2) 1968.02/ルツボ降下法によるフッ素金雲母の結晶育成条件と電気絶縁抵抗の関係およびその湿度依存性/ 204～207

71(3) 1968.03/多孔質触媒内の有効液相拡散係数 非定常抽出速度実験による評価/ 315～318

71(3) 1968.03/酢酸ビニル・メタノール・水系の溶解度,液液平衡と酢酸ビニル・メタノール系より酢酸ビニルの抽出分離/ 319～321

71(3) 1968.03/分子軌道法とポーラログラフに基づくキサンテン系色素のπ電子エネルギー準位の計算と写真作用の考察/ 322～326

71(3) 1968.03/シリコン単結晶の塩化水素ガスによる気相鏡面研摩/ 327～334

71(3) 1968.03/銅(I)塩の加水分解による亜酸化銅の生成/ 335～338

71(4) 1968.04/成型した炭酸鉛の熱分解速度/ 475～479

71(4) 1968.04/塩基性炭酸マグネシウムの示差熱分析曲線における発熱過程/ 480～484

71(4) 1968.04/二酸化マンガン電極の還元反応/ 484～487

71(4) 1968.04/塩化ビニル製造工業で副生する高沸点不純物の定性/ 488～491

71(4) 1968.04/水素プラズマによる低級脂肪族炭化水素からアセチレンの生成/ 492～496

71(5) 1968.05/プロピレン,アクロレインの爆発限界/ 615～618

71(5) 1968.05/金属ニッケル断面の触媒活性組織の失活/ 619～622

71(5) 1968.05/エチレン接触分解反応における担持金属ニッケル触媒の活性表面組織 触媒担体の効果/ 622～625

71(5) 1968.05/次亜リン酸ナトリウム還元法によるニッケル・リン触媒の製法とその化合形態/ 626～631

71(5) 1968.05/ハロゲン化銀に吸着した写真用増感色素の螢光の消光と分光増感作用の考察/ 631～635

71(6) 1968.06/エチレン酸化における銀触媒の表面状態/ 775～778

71(6) 1968.06/パルス被毒法による触媒活性点濃度の測定/ 779～783

71(6) 1968.06/反応に伴う酸素-水素混合ガス吸収速度/ 783～786

71(6) 1968.06/過酸化水素の分解機作/ 786～788

71(6) 1968.06/ジメチルエーテルの酸化によるホルムアルデヒド合成触媒の担体/ 789～790

71(7) 1968.07/酢酸メチル-メタノール-水あるいは塩水溶液の溶解度曲線と酢酸メチル-メタノール-塩水溶液の液液平衡/ 951～953

71(7) 1968.07/シリカーアルミナ触媒の摩砕による固体酸性および触媒活性の変化/ 953～956

71(7) 1968.07/ニッケル・リン触媒によるエチレンの水素化反応速度/ 957～960

71(7) 1968.07/石油分解(テキサコ)カーボンの二次賦活/ 960～963

71(7) 1968.07/フッ素-炭素化合物の性質/ 963～967

71(8) 1968.08/液体シアン化水素の重合による危険性と水分の影響/ 1119～1123

71(8) 1968.08/チグラー・ナッタ触媒によるエチレン重合の反応速度論的研究/ 1124～1128

71(8) 1968.08/チグラー・ナッタ触媒によるエチレン重合における水素添加効果および溶媒効果/ 1128～1131

71(8) 1968.08/硫酸バリウム-ストロンチウム混晶の不均一分配係数/ 1132～1136

71(8) 1968.08/赤色膠質土(今市土)の吸着特性とその利用に関する研究/ 1137～1140

71(9) 1968.09/メカノケミストリー(シンポジウム)/ 1301～1444

71(9) 1968.09/無機物質のメカノケミストリー/ 1301～1309

71(9) 1968.09/粉砕操作におけるメカノケミストリー/ 1309～1314

71(9) 1968.09/結晶核のメカノケミストリー/ 1314～1319

71(9) 1968.09/高分子のメカノケミカル反応/ 1319～1331

71(10) 1968.10/液液平衡におよぼす塩の影響/ 1577～1580

71(10) 1968.10/高温域における炭酸カリウムの解離圧測定/ 1581～1586

71(10) 1968.10/N,N-ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウムの光化学初期過程/ 1587～1590

71(10) 1968.10/ニッケル上でのヘキサンの分解による炭素析出/ 1591～1595

71(10) 1968.10/エチレン酸化反応の熱安定性/ 1595～1599

71(11) 1968.11/液相水素化反応における物質移動 液固物質移動係数と反応速度定数との相関関係/ 1759～1763

71(11) 1968.11/パルス反応装置の完全自動化 低級オレフィン類の酸化反応への適用/ 1764～1768

71(11) 1968.11/担体付きパラジウム触媒の製法と構造および活性/ 1768～1773

71(11) 1968.11/担体付きパラジウム触媒の形状構造と格子歪/ 1774～1778

71(11) 1968.11/ルテニウム触媒による水素化反応への酸素効果/ 1779～1782

71(12) 1968.12/純有機液体の分子量と誘電率との関係/ 1945～1949

71(12) 1968.12/酸化亜鉛粉体層の仕事関数に対する台金属の影響/ 1949～1955

71(12) 1968.12/水素化アルミニウム錯体の標準生成エンタルピー/ 1956～1960

71(12) 1968.12/非イオン性界面活性剤濃厚水溶液の流動複屈折ならびに粘性と逆性ミセル/ 1960～1964

71(12) 1968.12/フッ化ナトリウムによる四塩化炭素のフッ素化 五塩化アンチモンを触媒とする場合/ 1965～1968