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流動層粒子循環系を用いた多結晶シリコン製造プロセスの開発

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流動層粒子循環系を用いた多結晶シリコン製造プロセスの開発

国立国会図書館請求記号
Y151-S63850187
国立国会図書館書誌ID
000007036473
資料種別
図書
著者
阿尻, 雅文, 東北大学
出版者
-
出版年
1988-1990
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
リュウドウソウ リュウシ ジュンカンケイ オ モチイタ タケッショウ シリコン セイゾウ プロセス ノ カイハツ
著者・編者
阿尻, 雅文, 東北大学
著者標目
著者 : 阿尻, 雅文, 1957- アジリ, タダフミ, 1957- ( 00971013 )典拠
出版年月日等
1988-1990
出版年(W3CDTF)
1988
数量
その他のタイトル
研究種目 奨励研究(B)
件名標目
CVD CVD
シリコン シリコン
モノシラン モノシラン
流動層 リユウドウソウ
反応速度 ハンノウソクド
トリクロロシラン トリクロロシラン