反応性エピタキシヤル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 反応性エピタキシヤル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究
• タイトルよみ: ハンノウセイ エピタキシヤル セイチョウ ニ ヨル CoSi2/Si(100)ヘテロ コウゾウ ケイセイ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 財満, 鎮明, 名古屋大学
• 著者標目: 著者 ： 財満, 鎭明 ザイマ, シゲアキ ( 01210828 )典拠
• 出版年月日等: 1999-2001
• 出版年（W3CDTF）: 1999
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: CoSi2 COSI2; エピタキシヤル成長 エピタキシヤルセイチヨウ; サリサイド技術 サリサイドギジユツ; 二段階成長法 2ダンカイセイチヨウホウ; 反応機構 ハンノウキコウ; サーフアクタント効果 サーフアクタントコウカ; 多層多核成長 タソウタカクセイチヨウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 11450010
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H11450010
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007077637; http://id.ndl.go.jp/bib/000007077637
• 整理区分コード: 214