Structural studies of polycrystalline Si and SiC films deposited using fluorine and hydrogen radicals by PECVD

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Structural studies of polycrystalline Si and SiC films deposited using fluorine and hydrogen radicals by PECVD
• 著者・編者: Azadeh Haddad Adel [著]
• 著者標目: Haddad Adel, Azadeh ハッダド アデル, アザデ
• 出版事項: [Azadeh Haddad Adel]
• 出版年月日等: [2006]
• 出版年（W3CDTF）: 2006
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: プラズマ援用化学気相堆積法によりフッ素と水素を用いて堆積した多結晶SiおよびSiC薄膜の構造に関する研究 プラズマ エンヨウ カガク キソウ タイセキホウ ニ ヨリ フッソ ト スイソ オ モチイテ タイセキシタ タケッショウ Si オヨビ SiC ハクマク ノ コウゾウ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 金沢大学
• 授与年月日: 平成18年3月22日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2006
• 報告番号: 甲第2661号
• 学位: 博士 (学術)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2006-N511
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008384912; http://id.ndl.go.jp/bib/000008384912
• 整理区分コード: 213