Model analysis of plasma-surface interactions during silicon oxide etching in fluorocarbon plasmas

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Model analysis of plasma-surface interactions during silicon oxide etching in fluorocarbon plasmas
• 著者・編者: Hiroshi Fukumoto [著]
• 著者標目: 福本, 浩志 フクモト, ヒロシ
• 出版事項: [Hiroshi Fukumoto]
• 出版年月日等: [2012]
• 出版年（W3CDTF）: 2012
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ-表面相互作用の数値解析 フルオロカーボン プラズマ ニ ヨル サンカ シリコン エッチング ニ オケル プラズマ - ヒョウメン ソウゴ サヨウ ノ スウチ カイセキ
• 授与機関名: 京都大学
• 授与年月日: 平成24年5月23日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2012
• 報告番号: 甲第17064号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2012-E707
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023847664; http://id.ndl.go.jp/bib/023847664
• 整理区分コード: 213