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1996 1st International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 13-14 May 1996, Santa Clara, California, USA :soft :micro

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1996 1st International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 13-14 May 1996, Santa Clara, California, USA :soft

資料種別
図書
著者
Kim P. Cheung, Moritaka Nakamura, and Calvin T. Gabriel, editors ; technical co-sponsors, IEEE/Electron Devices Society, American Vacuum Society, Japanese Society of Applied Physics
出版者
Northern California Chapter of the American Vacuum Society
出版年
c1996
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
28 cm
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記：

"IEEE catalog no. 96TH8142"--T.p. versoIncludes bibliographical references and index

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書誌情報

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紙

資料種別
図書
ISBN
0965157709
0780330617
タイトル
1996 1st International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 13-14 May 1996, Santa Clara, California, USA
巻次・部編番号
:soft
:micro
著者・編者
Kim P. Cheung, Moritaka Nakamura, and Calvin T. Gabriel, editors ; technical co-sponsors, IEEE/Electron Devices Society, American Vacuum Society, Japanese Society of Applied Physics
著者標目
International Symposium on Plasma Process-Induced Damage
Cheung, Kin P.
Nakamura, Moritaka
Gabriel, Calvin T.
https://ci.nii.ac.jp/author/DA10596199外部サイト
IEEE Electron Devices Society
https://ci.nii.ac.jp/author/DA01257512外部サイト
American Vacuum Society
https://ci.nii.ac.jp/author/DA03926125外部サイト
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ
https://ci.nii.ac.jp/author/DA00633233外部サイト
出版事項
Northern California Chapter of the American Vacuum Society
出版年月日等
c1996
出版年（W3CDTF）
1996
大きさ
28 cm