Effect of SiNx coating in lateral solid phase epitaxy of implanted amorphous Si films

• 資料種別: 記事
• タイトル: Effect of SiNx coating in lateral solid phase epitaxy of implanted amorphous Si films
• 著者標目: Hiroshi Ishiwara; Kazuichi Fukao
• 出版年月日等: 1991-04
• 出版年（W3CDTF）: 1991-04
• タイトル（掲載誌）: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
• 巻号年月日等（掲載誌）: 55 1-4
• 掲載巻: 55
• 掲載号: 1-4
• 掲載ページ: 585-588
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1991-04
• ISSN（掲載誌）: 0168583X
• 出版事項（掲載誌）: Elsevier BV
• 件名標目: Instrumentation; Nuclear and High Energy Physics
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1016/0168-583x(91)96236-e
• 作成日（W3CDTF）: 2002-11-11
• 著作権情報: https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
• 関連情報（URI）: https://api.elsevier.com/content/article/PII:0168583X9196236E?httpAccept=text/xml; https://api.elsevier.com/content/article/PII:0168583X9196236E?httpAccept=text/plain
• 参照: Lateral Solid Phase Epitaxy of Amorphous Si Films under Ultrahigh Pressure; https://cir.nii.ac.jp/crid/1360284921818575744
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research; https://cir.nii.ac.jp/
• 提供元機関・データベース: Crossref; https://www.crossref.org

• 要約等: Abstract The effect of a SiNx coating was investigated in lateral solid phase epitaxy (L-SPE) of implanted amorphous Si (a-Si) films. It was found t...