Studies of the Possible Reaction of WF 6 with SiO2 and Si3 N 4 at Several Temperatures

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Studies of the Possible Reaction of WF 6 with SiO2 and Si3 N 4 at Several Temperatures

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資料種別: 記事
タイトル: Studies of the Possible Reaction of WF 6 with SiO2 and Si3 N 4 at Several Temperatures
著者標目: A. Kepten
A. Reisman
M. Ray
P. L. Smith
D. Temple
F. Tapp
出版年月日等: 1992-08-01
出版年（W3CDTF）: 1992-08-01
タイトル（掲載誌）: Journal of The Electrochemical Society
巻号年月日等（掲載誌）: 139 8
掲載巻: 139
掲載号: 8
掲載ページ: 2331-2337
掲載年月日（W3CDTF）: 1992-08-01
ISSN（掲載誌）: 00134651
出版事項（掲載誌）: The Electrochemical Society
対象利用者: 一般
DOI: 10.1149/1.2221226
作成日（W3CDTF）: 2006-06-19
著作権情報: https://iopscience.iop.org/page/copyright
https://iopscience.iop.org/info/page/text-and-data-mining
関連情報（URI）: https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.2221226
https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.2221226/pdf
参照: In Situ Monitoring of Selective Copper Deposition Processes in a Metal-Organic Chemical Vapor Deposition Using Fourier-Transform Infrared Reflection-Absorption Spectroscopy.
https://cir.nii.ac.jp/crid/1390001206245402368
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
https://cir.nii.ac.jp/
提供元機関・データベース: Crossref
https://www.crossref.org
CiNii Articles
Crossref
https://www.crossref.org
NII論文ID: 30016167527