Control of relative etch rates of SiO2 and Si in plasma etching
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 出版年月日等
- 1975-12
- 出版年（W3CDTF）
- 1975-12
- タイトル（掲載誌）
- Solid-State Electronics
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 18 12
- 掲載巻
- 18
- 掲載号
- 12
- 掲載ページ
- 1146-1147
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 1975-12
- ISSN（掲載誌）
- 00381101
- 出版事項（掲載誌）
- Elsevier BV
- 対象利用者
- 一般
- DOI
- 10.1016/0038-1101(75)90184-7
- 作成日（W3CDTF）
- 2002-10-18
- 著作権情報
- https://www.elsevier.com/tdm/userlicense/1.0/
- 関連情報（URI）
- 参照
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- 連携機関・データベース
- 国立情報学研究所 : CiNii Research
- 提供元機関・データベース
- CrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossrefCrossref