化学溶液法による(Bi,Nd)₄Ti₃O₁₂薄膜作製に及ぼすエキシマUV照射効果

• 資料種別: 記事
• タイトル: 化学溶液法による(Bi,Nd)₄Ti₃O₁₂薄膜作製に及ぼすエキシマUV照射効果
• 著者標目: 林 卓; 飯澤 直也; 戸川 大地; 水谷 祐輝; 山田 美緒; 坂本 渉; 菊田 浩一; 余語 利信; 平野 眞一
• 出版年月日等: 2004
• 出版年（W3CDTF）: 2004
• タイトル（掲載誌）: 日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2004S 0
• 掲載巻: 2004S
• 掲載号: 0
• 掲載ページ: 27-27
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2004
• 出版事項（掲載誌）: The Ceramic Society of Japan
• 件名標目: BNT thin films; excimer UV irradiation; chemical solution deposition; ferroelectric properties; BNT薄膜; エキシマUV照射; 化学溶液法; 強誘電特性
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.14853/pcersj.2004s.0.27.0
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research; https://cir.nii.ac.jp/
• 提供元機関・データベース: Japan Link Center; https://japanlinkcenter.org/top; CiNii Articles
• NII論文ID: 130006967358

• 要約等: 強誘電体不揮発性メモリに応用が期待される(Bi,Nd)₄Ti₃O₁₂(BNT)薄膜の研究が盛んに行われている。本研究では、BNT薄膜を化学溶液法によりPt/TiO<i>_x</i>/SiO₂/...