フェムト秒レーザを用いたダブルパルスビームによる励起状態面の表面加工に関する研究（第五報）

• 資料種別: 記事
• タイトル: フェムト秒レーザを用いたダブルパルスビームによる励起状態面の表面加工に関する研究（第五報）
• 著者標目: 松永 啓伍; 林 照剛; 黒河 周平; 横尾 英昭; 松川 洋二; 長谷川 登; 錦野 将元
• 出版年月日等: 2017
• 出版年（W3CDTF）: 2017
• 並列タイトル等: 光表面励起効果の検討; Investigation of surface photo excitation effect
• タイトル（掲載誌）: 精密工学会学術講演会講演論文集
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2017S 0
• 掲載巻: 2017S
• 掲載号: 0
• 掲載ページ: 417-418
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2017
• 出版事項（掲載誌）: The Japan Society for Precision Engineering
• 本文の言語コード: ja
• 件名標目: フェムト秒レーザ; 表面加工; 電子励起; 半導体; femtosecond laser; surface processing; electron excitation; semiconductor
• 対象利用者: 一般
• イベントの日付、場所: 2017年度精密工学会春季大会
• DOI: 10.11522/pscjspe.2017s.0_417
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research; https://cir.nii.ac.jp/
• 提供元機関・データベース: Japan Link Center; https://japanlinkcenter.org/top; CiNii Articles
• NII論文ID: 130006043771

• 要約等: 筆者らはパワー半導体基板の高効率・高精度加工技術の確立を目的として，フェムト秒レーザを利用したダブルパルスビーム照射による光励起加工を提案している．本研究では，近赤外光の超短パルスレーザによる光表面励起加工により，パワー半導体表面の微細加工，高効率化工を実現することを目指す．本報告では，レーザによっ...