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大気圧プラズマ酸化によるAlO<sub>x</sub>/SiO<sub>2</sub>/Siスタック構造の形成と評価

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大気圧プラズマ酸化によるAlO<sub>x</sub>/SiO<sub>2</sub>/Siスタック構造の形成と評価

資料種別
記事
著者
藤原 裕平ほか
出版者
The Japan Society for Precision Engineering
出版年
2014
資料形態
デジタル
掲載誌名
精密工学会学術講演会講演論文集 2014S 0
掲載ページ
p.565-566
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資料詳細

要約等:

結晶Si太陽電池の更なる高効率化に向けて、変換効率低減の要因である表面再結合を抑制する表面パッシベーション技術が重要である。p形Si表面のパッシベーション膜として、負の固定電荷を有することからAlO<sub>x</sub>が注目を集めている。本報では大気圧プラズマ酸化によってAlO<sub>x</s...

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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
出版年月日等
2014
出版年(W3CDTF)
2014
タイトル(掲載誌)
精密工学会学術講演会講演論文集
巻号年月日等(掲載誌)
2014S 0
掲載巻
2014S
掲載号
0
掲載ページ
565-566
掲載年月日(W3CDTF)
2014
出版事項(掲載誌)
The Japan Society for Precision Engineering
本文の言語コード
jpn
対象利用者
一般
連携機関・データベース
国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース
Japan Link Center
CiNii Articles
NII論文ID
130005479059