強磁場下における面密度0.153の磁性ナノ粒子薄膜製造の数値解析

• 資料種別: 記事
• タイトル: 強磁場下における面密度0.153の磁性ナノ粒子薄膜製造の数値解析
• 著者標目: 早坂 良; 大村 高弘; 藤原 誠之
• 出版年月日等: 2017
• 出版年（W3CDTF）: 2017
• タイトル（掲載誌）: 産応学全大
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2017 0
• 掲載巻: 2017
• 掲載号: 0
• 掲載ページ: 37-38
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2017
• 出版事項（掲載誌）: The Institute of Industrial Applications Engineers
• 本文の言語コード: ja
• 対象利用者: 一般
• イベントの日付、場所: 産業応用工学会全国大会2017
• DOI: 10.12792/iiae2017.020
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research; https://cir.nii.ac.jp/
• 提供元機関・データベース: Japan Link Center; https://japanlinkcenter.org/top; Crossref; https://www.crossref.org; CiNii Articles
• NII論文ID: 130006688856

• 要約等: 本研究では粒子を液体に懸濁しその液滴を基盤上に滴下して，液体を蒸発させることにより磁気特性と沈降する現象を利用し，粒子を付着させ薄膜を製造することを目的とする．具体的には磁場を印加し，粒子の沈降現象に及ぼす，粒子間磁気力の大きさ，粒子の質量密度，ならびに懸濁液の温度の影響を種々に設定し，全粒子が沈降...