High-Resolution Proximity Exposure through a Phase Shifter Mask

• 資料種別: 記事
• タイトル: High-Resolution Proximity Exposure through a Phase Shifter Mask
• 著者標目: Nonogaki Saburo; Imai Akira
• 出版年月日等: 1993
• 出版年（W3CDTF）: 1993
• タイトル（掲載誌）: Japanese Journal of Applied Physics
• 巻号年月日等（掲載誌）: 32 10
• 掲載巻: 32
• 掲載号: 10
• 掲載ページ: 4845-4849
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1993
• 出版事項（掲載誌）: 社団法人応用物理学会
• 本文の言語コード: en
• 件名標目: proximity exposure; phase shifter mask; photolithography; photoresist; resolution capability
• 対象利用者: 一般
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research; https://cir.nii.ac.jp/
• 提供元機関・データベース: CiNii Articles
• NII論文ID: 110003899873

• 要約等: A simple method to fabricate fine lines of photoresist has been developed. The method utilizes a mask containing an equal-width line-and-space pattern...