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Investigation oh High Rate Sputtering Method for the Deposition of TiO_2 Films

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Investigation oh High Rate Sputtering Method for the Deposition of TiO_2 Films

資料種別
記事
著者
TAKAHASHI T.
出版者
-
出版年
2004
資料形態
-
掲載誌名
TECHNICAL REPORTOF IEICE 2004 133
掲載ページ
p.33-38
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資料種別
記事
著者標目
出版年月日等
2004
出版年(W3CDTF)
2004
タイトル(掲載誌)
TECHNICAL REPORTOF IEICE
巻号年月日等(掲載誌)
2004 133
掲載巻
2004
掲載号
133
掲載ページ
33-38