Studies of hydrogen adsorption on silicon (100) surfaces by means of time-of-flight type electron stimulated desorption spectroscopy (TOF-ESD)

• 資料種別: 記事
• タイトル: Studies of hydrogen adsorption on silicon (100) surfaces by means of time-of-flight type electron stimulated desorption spectroscopy (TOF-ESD)
• 著者標目: Shinji Kodama; Kazuyuki Ueda; Akemi Takano
• 出版年月日等: 1992-08-01
• 出版年（W3CDTF）: 1992-08-01
• タイトル（掲載誌）: Vacuum
• 巻号年月日等（掲載誌）: 43
• 掲載巻: 43
• 掲載ページ: 795-798
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1992-08-01
• ISSN（掲載誌）: 0042207X
• 出版事項（掲載誌）: Elsevier BV
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1016/0042-207x(92)90138-m
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research; https://cir.nii.ac.jp/

• 要約等: Abstract The termination with hydrogen of a silicon surface for the epitaxial growth becomes an important technique. The adsorption processes of ato...