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高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製 23 4

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高速マグネトロンスパッタリングによる炭素薄膜の作製

Material type
記事
Author
小西 暁夫ほか
Publisher
-
Publication date
1980
Material Format
Digital
Journal name
真空 23 4
Publication Page
p.189-191
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Detailed bibliographic record

Summary, etc.:

基板の種類により炭素膜は, 煤状になったり平滑状になったりすることがわかった.これは基板下地の単なる平滑性の影響なのか, 材質的影響なのか判明できていない.<BR>スパッタ炭素膜の自然剥離は膜に比較的大きな圧縮応力が生ずる為であるように思われる.自然剥離の進行状況は森崎等の報告と酷似している.高圧下...

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Bibliographic Record

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Digital

Material Type
記事
Volume
23
4
Author/Editor
小西 暁夫
細川 直吉
安納 勝人
平塚 一
Publication Date
1980
Publication Date (W3CDTF)
1980
Alternative Title
Preparation and Properties of Carbon Films with Magnetron Sputtering
Periodical title
真空
Shinku
No. or year of volume/issue
23 4