高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 高周波スパッタリングによる薄膜形成とMOS素子への応用に関する研究
Author/Editor: 谷内, 利明
Author Heading: 谷内, 利明
Publication, Distribution, etc.: 静岡大学
Publication Date: 1986-09-30
Publication Date (W3CDTF): 1986-09-30
Pages: 1-140
Degree grantor/type: 静岡大学
Date Granted: 1986-09-30
Dissertation Number: 乙第14号
Degree Type: 工学博士
Text Language Code: jpn
NDC: 549
Target Audience: 一般
Note (General): doctoral
電子科学研究科
乙第14号
application/pdf
DOI: 10.14945/00003232
Format (IMT): application/pdf
Source: O0014.pdf （fulltext）
https://shizuoka.repo.nii.ac.jp/record/2070/files/O0014.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
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Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 静岡大学 : 静岡大学学術リポジトリ