半導体微細加工への機能性有機薄膜の応用に関する研究

• Material Type: 文書・図像類
• Title: 半導体微細加工への機能性有機薄膜の応用に関する研究
• Author/Editor: 小川 一文
• Author Heading: 小川 一文
• Publication Date: 1988-12
• Publication Date (W3CDTF): 1988-12
• Alternative Title: Studies on applications of functional organic-thin-films for lithography on semiconductor device production
• Periodical title: JAERI-M 88-248
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Note (General): 本報告は、0.5$\mu$m以下のデバイス製造における超微細加工技術開発の基礎研究として、(1)露光装置、(2)レジスト使用技術(すなわちレジストプロセス)および(3)レジスト材料について行った研究成果をまとめたものである。露光装置では、実用レベルで最も可能性が高いと言われている理論解像度0.3$\mu$mのKrFエキシマレーザを用いたステッパー(エキシマレーザステッパー)を試作した。レジストプロセス技術では、光を用いた露光装置でパターンコントラスト向上効果や焦点深度向上効果がある水溶液CEL(Contrast Enhanced Lithography)プロセス技術の開発を行った。さらに、レジスト材料では、分子レベルで均一な膜形成が可能な累積膜(Langmuir-Blodgett(LB)膜)に着目し、半導体デバイス製造におけるレジストへの応用の可能性を検討すると共に、これら機能性有機薄膜の放射線による反応過程を明らかにした。
• Source: /JAERI-M-88-248.pdf （fulltext）; https://jopss.jaea.go.jp/pdfdata/JAERI-M-88-248.pdf
• Access Restrictions: 限定公開
• Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）; https://irdb.nii.ac.jp
• Original Data Provider (Database): 日本原子力研究開発機構 : JOPSS:JAEA Originated Papers Searching System

• Summary, etc.: 本報告は、0.5$\mu$m以下のデバイス製造における超微細加工技術開発の基礎研究として、(1)露光装置、(2)レジスト使用技術(すなわちレジストプロセス)および(3)レジスト材料について行った研究成果をまとめたものである。露光装置では、実用レベルで最も可能性が高いと言われている理論解像度0.3$\...