Research on a New Wet Cleaning Process for GSI Device Fabrication

• Material Type: 博士論文
• Title: Research on a New Wet Cleaning Process for GSI Device Fabrication
• Author/Editor: 崔根敏 [著]
• Author Heading: 崔, 根敏 チョイ, グンミン
• Publication, Distribution, etc.: [崔根敏]
• Publication Date: [2001]
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 1冊
• Alternative Title: GSIデバイス製造における新しいウェット洗浄プロセスの研究 GSI デバイス セイゾウ ニ オケル アタラシイ ウェット センジョウ プロセス ノ ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成13年3月26日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 甲第7957号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-N736
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000409565; http://id.ndl.go.jp/bib/000000409565
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

CONTENTS

CHAPTER1 INTRODUCTION

1.1.General Background

1.2.Current Issues of Conventional Wet Cleaning

1.3.An Advanced Room Temperature 4-Step Wet Cleaning to Replace Conventional Cleaning