微細化技術に起因するシリコンデバイス特性劣化の発生機構の検討とその改善

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Material Type: 博士論文
Title: 微細化技術に起因するシリコンデバイス特性劣化の発生機構の検討とその改善
Author/Editor: 倉知, 郁生
Publication, Distribution, etc.: 倉知, 郁生
Publication Date: 2016
Publication Date (W3CDTF): 2016
Degree grantor/type: 東京理科大学
Date Granted: 2016-03-18
Date Granted (W3CDTF): 2016-03-18
Dissertation Number: 乙第1083号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Alias of Author: Kurachi, Ikuo
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10359195
https://dl.ndl.go.jp/pid/10359195
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（送信）
Date Accepted (W3CDTF): 2017-06-07T21:16:11+09:00
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp