表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合

• Material Type: 博士論文
• Title: 表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合
• Title Transcription: ヒョウメン カッセイカホウ ニ ヨル シリコン ウェハ ノ ジョウオン セツゴウ
• Author/Editor: 高木秀樹 [著]
• Author Heading: 高木, 秀樹 タカギ, ヒデキ
• Publication, Distribution, etc.: [高木秀樹]
• Publication Date: [1999]
• Publication Date (W3CDTF): 1999
• Extent: 1冊
• Degree Grantor: 東京大学
• Date Granted: 平成11年9月30日
• Date Granted (W3CDTF): 1999
• Dissertation Number: 甲第14778号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-Q132
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000411905; http://id.ndl.go.jp/bib/000000411905
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

• DOI: 10.11501/3189942; https://doi.org/10.11501/3189942
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/3189942; https://dl.ndl.go.jp/pid/3189942
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (Materials For Handicapped People:2): プレーンテキスト
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• Producer: 国立国会図書館
• Date Accepted (W3CDTF): 2011-12-06T14:16:45+09:00
• Format (IMT): image/jp2
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Call No.: UT51-2001-Q132
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

Table of Contents

目次

第1章 序論

1.1 研究の背景

1.2 本研究の目的

1.3 本論文の構成