エッチピット法によるAlNエピタキシャル膜中の貫通転位の評価

• 資料種別: 記事
• タイトル: エッチピット法によるAlNエピタキシャル膜中の貫通転位の評価
• 著者・編者: 野村 拓也; 三宅 秀人; 平松 和政 他
• シリーズタイトル: 電子部品・材料
• 著者標目: 野村 拓也; 三宅 秀人; 平松 和政
• 並列タイトル等: Etch-pit method of threading dislocations in epitaxial AlN films
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 111(291):2011.11.17・18
• 掲載巻: 111
• 掲載号: 291
• 掲載ページ: 11-14
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2011-11
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: AlN; HVPE; エッチピット法; 貫通転位; etch-pit method; threading dislocations; facer control
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: CPM2011-124
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 023342913; http://id.ndl.go.jp/bib/023342913
• 整理区分コード: 632