クラスターイオンビーム技術の開発,半導体からバイオ材料まで (特集 医療機器における表面修飾技術の応用)

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クラスターイオンビーム技術の開発,半導体からバイオ材料まで

(特集 医療機器における表面修飾技術の応用)

国立国会図書館請求記号
Z14-778
国立国会図書館書誌ID
023446433
資料種別
記事
著者
山田 公
出版者
東京 : 日本材料科学会 ; 2002-
出版年
2011
資料形態
掲載誌名
材料の科学と工学 : 日本材料科学会誌 48(6)=276:2011
掲載ページ
p.272-277
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
山田 公
著者標目
並列タイトル等
Development of Cluster Ion Beam Technology : Applications from Semiconductors to Biomaterials
タイトル(掲載誌)
材料の科学と工学 : 日本材料科学会誌
巻号年月日等(掲載誌)
48(6)=276:2011
掲載巻
48
掲載号
6