リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用 : 樹脂構造の影響(特集光とネットワークポリマー)

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資料種別: 記事
タイトル: リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用 : 樹脂構造の影響
著者・編者: 松川大作
岡村晴之
白井正充
シリーズタイトル: 特集光とネットワークポリマー
著者標目: 松川大作
岡村晴之
白井正充
並列タイトル等: Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Nanoimprint Lithography : Effect of Monomer Structure
タイトル（掲載誌）: ネットワークポリマー = Journal of network polymer, Japan
巻号年月日等（掲載誌）: 33(2):2012
掲載巻: 33
掲載号: 2
掲載ページ: 74-79
掲載年月日（W3CDTF）: 2012
ISSN（掲載誌）: 1342-0577
ISSN-L（掲載誌）: 1342-0577
出版事項（掲載誌）: 東京 : 合成樹脂工業協会
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
件名標目: UV nanoimprint lithography
UV curing
Reworkable resin
Degradation
Shrinkage
NDLC: ZP17
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z17-845
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 023605134
http://id.ndl.go.jp/bib/023605134
整理区分コード: 632