MOVPE法によるSi基板上GaPの成長速度依存性 (シリコン材料・デバイス)

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MOVPE法によるSi基板上GaPの成長速度依存性

(シリコン材料・デバイス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
023743382
資料種別
記事
著者
高木 達也ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2012-05
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 112(34):2012.5.17・18
掲載ページ
p.19-23
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
高木 達也
華 俊辰
宮原 亮 他
シリーズタイトル
並列タイトル等
Growth-rate dependence of GaP structure grown Si substrates using metalorganic vapor phase epitaxy
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
112(34):2012.5.17・18
掲載巻
112
掲載号
34