Development of Cu Etching Using O₂ Cluster Ion Beam under Acetic Acid Gas Atmosphere (Special Issue : Dry Process)

Development of Cu Etching Using O₂ Cluster Ion Beam under Acetic Acid Gas Atmosphere

(Special Issue : Dry Process)

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

CiNii Research
検索サービス
連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
この本の所蔵を確認

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

資料種別: 記事
タイトル: Development of Cu Etching Using O₂ Cluster Ion Beam under Acetic Acid Gas Atmosphere
著者・編者: Takanori Suda
Noriaki Toyoda
Ken-ichi Hara 他
シリーズタイトル: Special Issue : Dry Process
著者標目: Takanori Suda
Noriaki Toyoda
Ken-ichi Hara
タイトル（掲載誌）: Japanese journal of applied physics : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）: 51(8)(2):2012.8
掲載巻: 51
掲載号: 8
掲載通号: 2
掲載ページ: 08HA02-1-5
掲載年月日（W3CDTF）: 2012-08
ISSN（掲載誌）: 0021-4922
ISSN-L（掲載誌）: 0021-4922
出版事項（掲載誌）: Tokyo : The Japan Society of Applied Physics
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: ZM35
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z53-A375
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 023907046
http://id.ndl.go.jp/bib/023907046
整理区分コード: 632