ミストを用いた薄膜作...

ミストを用いた薄膜作製法の開発と電子デバイス実証 (特集 酸化物半導体の新しい応用展開 : 酸化亜鉛,酸化ガリウム,さらに新しい材料を求めて)

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ミストを用いた薄膜作製法の開発と電子デバイス実証

(特集 酸化物半導体の新しい応用展開 : 酸化亜鉛,酸化ガリウム,さらに新しい材料を求めて)

国立国会図書館請求記号
Z14-909
国立国会図書館書誌ID
024083951
資料種別
記事
著者
川原村 敏幸
出版者
東京 : シーエムシー出版
出版年
2012-12
資料形態
掲載誌名
機能材料 32(12)=376:2012.12
掲載ページ
p.34-42
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
川原村 敏幸
著者標目
並列タイトル等
Development of Thin Film Growth Method using "Mist" and its Application Demonstrated by the Electrical Device
タイトル(掲載誌)
機能材料
巻号年月日等(掲載誌)
32(12)=376:2012.12
掲載巻
32
掲載号
12