炭化ケイ素基板研磨のための電界砥粒分布制御研磨に関する研究 : 電界による研磨率向上メカニズムの検討
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 久住 孝幸佐藤 安弘池田 洋 他
- 並列タイトル等
- The Development of AC Electric Field Assisted Polishing for Silicon Carbide Substrates with Control of Abrasive Behavior : Clarification of Improvement Mechanism for Polishing Rate with Electric Field
- タイトル（掲載誌）
- 精密工学会誌 = Journal of the Japan Society for Precision Engineering / 会誌編集委員会 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 79(1)=937:2013.1
- 掲載巻
- 79
- 掲載号
- 1
- 掲載通号
- 937