紫外レーザー照射を用いる酸化物材料の低温製膜 : 結晶粒成長と配向制御 (特集低温合成による新材料創製 : 異分野横断で見える無機化学の可能性)

紫外レーザー照射を用いる酸化物材料の低温製膜 : 結晶粒成長と配向制御

(特集低温合成による新材料創製 : 異分野横断で見える無機化学の可能性)

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資料種別: 記事
タイトル: 紫外レーザー照射を用いる酸化物材料の低温製膜 : 結晶粒成長と配向制御
著者・編者: 中島智彦
篠田健太郎
土屋哲男
シリーズタイトル: 特集低温合成による新材料創製 : 異分野横断で見える無機化学の可能性
著者標目: 中島智彦
篠田健太郎
土屋哲男
並列タイトル等: Low Temperature Crystal Growth of Oxide Thin Films by using UV Lasers
タイトル（掲載誌）: 機能材料
巻号年月日等（掲載誌）: 33(1)=377:2013.1
掲載巻: 33
掲載号: 1
掲載通号: 377
掲載ページ: 24-30
掲載年月日（W3CDTF）: 2013-01
ISSN（掲載誌）: 0286-4835
ISSN-L（掲載誌）: 0286-4835
出版事項（掲載誌）: 東京 : シーエムシー出版
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: jpn
NDLC: ZM16
対象利用者: 一般
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: Z14-909
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 024221043
http://id.ndl.go.jp/bib/024221043
整理区分コード: 632