超高純度Cu陽極の含...

超高純度Cu陽極の含リン化が8インチウエハへの超高純度めっきプロセスにおける異物汚染および形成したCu配線の抵抗率に及ぼす影響

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超高純度Cu陽極の含リン化が8インチウエハへの超高純度めっきプロセスにおける異物汚染および形成したCu配線の抵抗率に及ぼす影響

国立国会図書館請求記号
Z17-314
国立国会図書館書誌ID
024975091
資料種別
記事
著者
田代 優ほか
出版者
仙台 : 日本金属学会 ; 1937-
出版年
2013-11
資料形態
掲載誌名
日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials 77(11):2013.11
掲載ページ
p.503-508
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
田代 優
門田 裕行
伊藤 雅彦 他
並列タイトル等
The Influence of Phosphorus Impregnated Ultra-High Purity Cu Anode on the Particle Pollution and Cu Wiring Resistivity in Processing of 8 Inch Wafers
タイトル(掲載誌)
日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials
巻号年月日等(掲載誌)
77(11):2013.11
掲載巻
77
掲載号
11
掲載ページ
503-508