雑誌電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
巻号114巻88号 2014年6月19日
記事金属/Ge界面におけ...

金属/Ge界面における空孔欠陥の安定性 : 第一原理計算による検討 (シリコン材料・デバイス)

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金属/Ge界面における空孔欠陥の安定性 : 第一原理計算による検討

(シリコン材料・デバイス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
025590106
資料種別
記事
著者
佐々木 奨悟ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2014-06-19
資料形態
紙
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114(88):2014.6.19
掲載ページ
p.17-20
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紙

資料種別
記事
タイトル
金属/Ge界面における空孔欠陥の安定性 : 第一原理計算による検討
著者・編者
佐々木 奨悟
中山 隆史
シリーズタイトル
シリコン材料・デバイス
著者標目
佐々木 奨悟
中山 隆史
並列タイトル等
Stability of vacancy defect around metal/Ge interfaces : First-principles Study
タイトル（掲載誌）
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等（掲載誌）
114(88):2014.6.19
掲載巻
114
掲載号
88