シリコン酸化膜上の横注入DFBレーザ

• 資料種別: 記事
• タイトル: シリコン酸化膜上の横注入DFBレーザ
• 著者・編者: 松尾 慎治; 藤井 拓郎; 長谷部 浩一 他
• シリーズタイトル: レーザ・量子エレクトロニクス
• 著者標目: 松尾 慎治; 藤井 拓郎; 長谷部 浩一
• 並列タイトル等: Lateral Current Injection DFB Laser on Si/SiO₂ Substrate
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 114(187):2014.8.21・22
• 掲載巻: 114
• 掲載号: 187
• 掲載ページ: 13-16
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2014-08
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: DFBレーザ; オンシリコンレーザ; 横型pin接合; DFB laser; laser on Si; lateral pin junction
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: LQE2014-29
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 025772057; http://id.ndl.go.jp/bib/025772057
• 整理区分コード: 632