極薄シリコン酸化膜における原子レベルの膜厚均一性と信頼性 (小特集 半導体表面における極薄膜形成プロセス(1))
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 山部 紀久夫蓮沼 隆
- シリーズタイトル
- 並列タイトル等
- Atomic Level Thickness Uniformity and Reliability of Ultrathin Silicon Dioxide Films Thermally Grown on Crystalline Silicon
- タイトル（掲載誌）
- Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 58(1):2015.1
- 掲載巻
- 58
- 掲載号
- 1