B⁺およびB₁₀H₁₄⁺注入Si基板の軟X線照射による活性化

• 資料種別: 記事
• タイトル: B⁺およびB₁₀H₁₄⁺注入Si基板の軟X線照射による活性化
• 著者・編者: 部家 彰; 草壁 史; 平野 翔大 他
• シリーズタイトル: 電子ディスプレイ
• 著者標目: 部家 彰; 草壁 史; 平野 翔大
• 並列タイトル等: Activation of B⁺ or B₁₀H₁₄⁺ Implanted Silicon by Soft X-ray Irradiation
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 114(359):2014.12.12
• 掲載巻: 114
• 掲載号: 359
• 掲載ページ: 13-16
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2014-12-12
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 軟X線源; Bクラスタ; 低温活性化; シリコン; 電子励起; 原子移動; Soft X-ray source; Boron cluster; Low-temperature activation; Silicon; Electron excitation; Atomic movement
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: EID2014-15
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 026033644; http://id.ndl.go.jp/bib/026033644
• 整理区分コード: 632