化学増幅型レジストの...

化学増幅型レジストのEUV,EB,KrF露光における性能の比較

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化学増幅型レジストのEUV,EB,KrF露光における性能の比較

国立国会図書館請求記号
Z17-926
国立国会図書館書誌ID
026817329
資料種別
記事
著者
清水 大輔ほか
出版者
東京 : JSR広報部
出版年
2007-03
資料形態
掲載誌名
JSRテクニカルレビュー = JSR technical review / JSR株式会社研究開発部 編 (114) 2007.3
掲載ページ
p.9-15
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
清水 大輔
松村 信司
甲斐 敏之 他
並列タイトル等
Performance Comparison of Chemically Amplified Resists under. EUV, EB and KrF Exposure
タイトル(掲載誌)
JSRテクニカルレビュー = JSR technical review / JSR株式会社研究開発部 編
巻号年月日等(掲載誌)
(114) 2007.3
掲載号
114
掲載ページ
9-15
掲載年月日(W3CDTF)
2007-03