溶液成長法によるCuO及びCu₂O薄膜の成長と表面モフォロジー

• 資料種別: 記事
• タイトル: 溶液成長法によるCuO及びCu₂O薄膜の成長と表面モフォロジー
• 著者・編者: 寺迫 智昭; 門田 直己; 大森 裕也; 佐伯 拓哉
• シリーズタイトル: 電子部品・材料 ; 材料・デバイス サマーミーティング
• 著者標目: 寺迫 智昭; 門田 直己; 大森 裕也; 佐伯 拓哉
• 並列タイトル等: Growth of CuO and Cu₂O Films by Chemical Bath Deposition and Their Surface Morphologies
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 116(100):2016.6.17
• 掲載巻: 116
• 掲載号: 100
• 掲載ページ: 1-6
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2016-06-17
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Cuo; Cu₂O; 溶液成長法; 走査型電子顕微鏡; X線回折; 表面モフォロジー; Chemical bath deposition; Scanning electron microscope; X-ray diffraction; Surface morphology
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: CPM2016-15
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 027485391; http://id.ndl.go.jp/bib/027485391
• 整理区分コード: 632