YAlO₃(001)基板上でのCr₂O₃薄膜の成膜条件の最適化および結晶構造解析

• 資料種別: 記事
• タイトル: YAlO₃(001)基板上でのCr₂O₃薄膜の成膜条件の最適化および結晶構造解析
• 著者・編者: 橋本 浩佑; 隅田 貴士; 福井 慎二郎; 平戸 剛志; 柳原 康宏; 永田 知子; 山本 寛; 岩田 展幸
• シリーズタイトル: 有機エレクトロニクス ; 材料・デバイス サマーミーティング
• 著者標目: 橋本 浩佑; 隅田 貴士; 福井 慎二郎; 平戸 剛志; 柳原 康宏; 永田 知子; 山本 寛; 岩田 展幸
• 並列タイトル等: Structure Analyses and Optimization of deposition condition for Cr₂O₃ thin films grown on Surface Treated YAlO₃(001) Substrates
• タイトル（掲載誌）: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• 巻号年月日等（掲載誌）: 116(101):2016.6.17
• 掲載巻: 116
• 掲載号: 101
• 掲載ページ: 19-22
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2016-06-17
• ISSN（掲載誌）: 0913-5685
• ISSN-L（掲載誌）: 0913-5685
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電子情報通信学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: Cr₂O₃; 薄膜; YAlO₃; films
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: OME2016-21
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z16-940
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 027485558; http://id.ndl.go.jp/bib/027485558
• 整理区分コード: 632