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イオンプレーティング法の成膜時における過剰エネルギーに及ぼす熱電子放射フィラメントの影響

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イオンプレーティング法の成膜時における過剰エネルギーに及ぼす熱電子放射フィラメントの影響

国立国会図書館請求記号
Z17-314
国立国会図書館書誌ID
027773190
資料種別
記事
著者
酒井 彰崇ほか
出版者
仙台 : 日本金属学会 ; 1937-
出版年
2016-12
資料形態
掲載誌名
日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials 80(12):2016.12
掲載ページ
p.759-763
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
酒井 彰崇
ニヨムワイタヤ チョンラウイット
山本 麟太郎
篠岡 樹
松村 義人
並列タイトル等
Effects on Hot Electron Emitter for Excess Energy of Thin Films Formation by Ion Plating Process
タイトル(掲載誌)
日本金属学会誌 = The journal of the Japan Institute of Metals and Materials
巻号年月日等(掲載誌)
80(12):2016.12
掲載巻
80
掲載号
12
掲載ページ
759-763