雑誌電気学会研究会資料 DEI
巻号2017(1)-2017(106):2017.1.18-2017.12.19
記事ナノインプリントリソ...

ナノインプリントリソグラフィーによる段差型高周波トランジスタタグの特性評価 (誘電・絶縁材料研究会・次世代エレクトロニクスのための界面評価と制御技術)

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ナノインプリントリソグラフィーによる段差型高周波トランジスタタグの特性評価

(誘電・絶縁材料研究会・次世代エレクトロニクスのための界面評価と制御技術)

国立国会図書館請求記号
Z43-227
国立国会図書館書誌ID
028021955
資料種別
記事
著者
周 真平ほか
出版者
東京 : 電気学会
出版年
2017-02-22
資料形態
紙
掲載誌名
電気学会研究会資料. DEI 2017(14-23):2017.2.22
掲載ページ
p.15-19
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紙

資料種別
記事
タイトル
ナノインプリントリソグラフィーによる段差型高周波トランジスタタグの特性評価
著者・編者
周 真平
平山 智明
山内 博
岡田 悠悟
酒井 正俊
飯塚 正明
工藤 一浩
シリーズタイトル
誘電・絶縁材料研究会・次世代エレクトロニクスのための界面評価と制御技術
著者標目
周 真平
平山 智明
山内 博
岡田 悠悟
酒井 正俊
飯塚 正明
工藤 一浩
並列タイトル等
Characterization of step-edge transistor tags fabricated by nanoimprint lithography
タイトル（掲載誌）
電気学会研究会資料. DEI
巻号年月日等（掲載誌）
2017(14-23):2017.2.22
掲載巻
2017
掲載号
14-23